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清远高精度横沥真空镀膜厂家

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-03-25 5:36:14 * 浏览: 0

pvd横沥真空电镀基片表面的污染来源主要有:    ①零件在加工、传输、包装过程中及放置时所粘附的各种粉尘,    ②零件在加工、储运过程中粘附的润滑油、机油、抛光膏及油脂、汗渍等污物,    ③零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜,    ④零件表面吸收和吸附的气体这些污染物基本上均可采用去油或化学清洗方法将其去掉。    实验室及工业上常用的基片清洗方法见表15-12。几种常用的镀前处理工艺过程及配方见表15-13。。

横沥表面处理(2)真空镀铬对光固化底涂层提出了更高的要求:足够的耐热性和耐辐照性,与基材及横沥真空镀膜层有良好的结合力,不能相互发生化学反应,具有良好的流平性等脂环族环氧树脂改性丙烯酸酯涂料基本上达到这些要求,从而为真空镀铬以及需要采用离子镀和磁控溅射的横沥真空镀膜创造了基本条件。(3)光固化有机涂层与真空镀铬复合,加上钛氧化物膜的保护,形成了一种新的镀铬技术,其性能显著优于真空镀铝,而与传统的横沥电镀铬相比较,则具有环保、节能、节水、节材、简化工序、降低成本以及性能更优的特点,值得大力推广。。

横沥五金电镀表10-23给出了各种化合物薄膜形成方式,成膜条件、膜的特点及用途。

横沥真空电镀其性能见表10-4    表10-4蒸发源所用金属材料的性质。

纳米横沥真空电镀随着碰撞次数的增加,电子e1的能量逐渐降低,同时e1逐步远离靶面低能电子e1将如图10-11中e3那样沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场E的作用下z*终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,使基片温升较低。在磁极轴线处电场与磁场平行,电子e2将直接飞向基片。但是,在磁控溅射装置中,磁极轴线处离子密度很低,所以e2类电子很少,对基片温升作用不大。综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向,束缚和延长电子的运动路径,提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量。因此,在形成高密度等离子体的异常辉光放电中,正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有ldquo,低温、ldquo,高速两大特点的机理。。

主要用于半导体器件制造上表10-20给出了绝缘膜种类、制作方法及用途。图10-31为热壁反应室结构简图,减压装置的工作压力为10Pa~1000Pa。。

离子镀应用领域见表10-14。

    目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kWmdash,8kW,加热电压为10Vmdash,12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的z*外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。。

蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

    在超导领域,有快速蒸发、低温凝聚的InSb非晶超导膜,高纯度Nb超导溅射膜以及Nb-Ge系、Nb-(Cu)系、V-Hf-Zr系超导膜等  在声学应用方面,ZnO薄膜是一种优良的压电薄膜材料,它具有机电耦合系数大,温度性能好,容易在各种非压电基片上形成择优取向等优点。  除了上述应用之外,横沥真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。。